大家好，来看一则突发消息。

　　美光(guāng)公司在(zài)华销售的(de)产品未(wèi)通过(guò)网络安(ān)全审查

　　据网(wǎng)信办(bàn)消息，日(rì)前，网络安全审查办公室(shì)依(yī)法(fǎ)对美光公司(sī)在华销售产品进行了网络安全审查。

　　审(shěn)查发现，美光(guāng)公司产品存(cún)在较严重(zhòng)网络安全问题隐患，对(duì)我国关键信息基础设施供应链造成重大安全风(fēng)险，影响我(wǒ)国国家(jiā)安全。为此(cǐ)，网(wǎng)络安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)作出不予通过网络安全审查的结论。按照《网(wǎng)络安全法(fǎ)》等法(fǎ)律法规，我国(guó)内关键信息基础设施的运营者(zhě)应(yīng)停(tíng)止采购美光公司(sī)产品。

　　此次对美光公司产品(pǐn)进行网络安全(quán)审查，目的是(shì)防范产品网络(luò)安(ān)全(quán)问题危害(hài)国家(jiā)关(guān)键信息基础设施安(ān)全，是维(wéi)护国家安(ān)全的(de)必要措施。中国坚定推进高水平对外开放，只要(yào)遵守(shǒu)中国法(fǎ)律(lǜ)法(fǎ)规要求，欢迎各(gè)国企业、各类(lèi)平(píng)台产品服务进入(rù)中(zhōng)国市场。

　　3月(yuè)31日(rì)，中国(guó)网(wǎng)信网发文(wén)称，为(wèi)保障关键信息(xī)基础(chǔ)设施供应链(liàn)安全，防范产品问(wèn)题隐患造成网(wǎng)络安全风(fēng)险，维护国家(jiā)安全(quán)，依据(jù)《中华人民共(gòng)和国(guó)国家安全(quán)法》《中华(huá)人民共和国网络安全法》，网络安全审(shěn)查办公(gōng)室(shì)按(àn)照《网络(luò)安(ān)全审(shěn)查(chá)办法》，对(duì)美光公司（Micron）在华销(xiāo)售(shòu)的产(chǎn)品(pǐn)实施网络安全(quán)审查。

　　美光是美国的(de)存储(chǔ)芯片(piàn)行业龙(lóng)头，也(yě)是全球存储芯片巨头之一，2022年收入来自中国市场收入从此前(qián)高峰(fēng)57％降至(zhì)2022年约(yuē)11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西(xī)部(bù)数(shù)据、SK 海(hǎi)力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存(cún)）市场份额(é)约为 96.76％，三星电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM （内存）市场(chǎng)份额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公(gōng)司中，江波龙、佰维存储等公司披露(lù)过美光等(děng)国际(jì)存储厂商为公司供(gōng)应(yīng)商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已经显著下降，至少已经不是主要大(dà)供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年美光位列江波龙(lóng)第一(yī)大存储(chǔ)晶圆(yuán)供(gōng)应商，采购(gòu)约(yuē)31亿元(yuán)，占(zhàn)比33.52％；2022年，江波(bō)龙第一大、第二大和第三大供应商采(cǎi)购金额(é)占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江(jiāng)波龙已(yǐ)经(jīng)在存(cún)储产业链上(shàng)下(xià)游建立国内外广泛合(hé)作。2022年(nián)年报显一个学期一般有多少周 一个学期一般有几个月示，江波龙与三星、美光、西部数据(jù)等主要存储晶圆原(yuán)厂签署了长期合约(yuē)，确保存储(chǔ)晶圆供应的(de)稳定性(xìng)，巩(gǒng)固公司(sī)在下(xià)游市场的供应优势，公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储(chǔ)、合肥长鑫保持良好的(de)合作。

　　有券商(shāng)此前(qián)就分析，如果美光在(zài)中国区销售受到限制，或(huò)将导致下游客户转而(ér)采购国(guó)外(wài)三星、 SK海力士，国内长江存储(chǔ)、长鑫存储等(děng)竞(jìng)对产(chǎn)品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫(xīn)的(de)上(shàng)游设备厂(chǎng)或从中(zhōng)受益。存储(chǔ)器(qì)的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经(jīng)进(jìn)入3D NAND时代，2 维到3维的结(jié)构转变使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键、最大(dà)量的加(jiā)工设备。3D NAND每层均需要经过薄(báo)膜沉积(jī)工艺步骤，同时刻蚀(shí)目前前沿要刻到 60：1的(de)深(shēn)孔，未(wèi)来(lái)可能(néng)会更深的孔(kǒng)或者沟槽，催(cuī)生更(gèng)多(duō)设(shè)备需求。据东京电子(zi)披露，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线资本开支(zhī)合计为(wèi)75％。自(zì)长江(jiāng)存(cún)储(chǔ)被加(jiā)入美(měi)国限制名单，设备(bèi)国产化进程加速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积(jī)）等(děng)相关公司份(fèn)额一个学期一般有多少周 一个学期一般有几个月提(tí)升(shēng)，以及(jí)存储业务占比较高的(de)华海清(qīng)科（CMP）、盛美(měi)上海（清洗(xǐ)）等收入增长。

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